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　　合成膜精密电阻参数

     功率特性：小功率

　　外形：平面片状

        合成膜精密电阻的特点和制作过程

 　　合成膜精密电阻是一种电子元件，用于电路中控制电流或电压。它通常由一块绝缘基板上沉积了金属膜的电阻器组成。这种金属膜可以是金属合金，如镍铬合金或钨氧化物等。
　　合成膜精密电阻的制造过程包括：
　　基板准备：选择适当材料的绝缘基板，通常是陶瓷或玻璃基板。
　　金属膜沉积：通过物理气相沉积（PVD）或化学气相沉积（CVD）等技术，在基板表面沉积金属膜。沉积的金属膜通常具有很高的电阻率，并且可以控制其厚度，从而控制电阻值。
　　图形化：利用光刻技术，将金属膜上的电阻器图案化，形成具有预定电阻值的电阻器结构。
　　蒸发金属层：在电阻器结构上蒸发一层保护性金属层，通常是镍、铬或金等金属。这一步可以防止电阻器受到外部环境的影响，并提高电阻器的稳定性和耐久性。
　　切割和测试：将基板切割成单个的电阻器，然后进行测试，以确保其电阻值符合规格要求。